电子光学--EDI超纯水设备

2018.01.19 10:16 807次
电子光学--EDI超纯水设备

       EDI超纯水设备又称电去离子设备,一般用于电子光学行业生产用水,如半导体、集成电路芯片及封装用水、电子试剂用水,电子管涂敷配液用水、液晶显示器屏面清洗用水、硅片清洗用水、光学镜片清洗用水、各种高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模集成电路等生产用水需求. 

服务内容:
       包括设备工艺设计、系统制造、安装、现场安装、系统试装调整、设备保修、及售后服务等。 

设计参考标准:
       1)建设方提供的相关技术资料,技术说明,及基本技术要求;
       2)国家现行有关设计规范、施工及验收规范、质量评定标准;
       3)反渗透系统设计依据美国

       4)ZBG98020-90《水处理设备系列型谱》;
       5)电力装置的继电保护和自动装置设计规范(GB50062-1992);
       6)工业与民用电力装置的接地设计规范(GBJ65-1983);
       7)GB/T11446.1-1997国家电子级超纯水标准Ⅰ级≥18MΩ/CM (25℃)95%以上时间;  

EDI超纯水设备简述: 
       既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水称为超纯水,我国电子工业部将电子工业用水划分为四级用水标准(18MΩ/CM、15MΩ/CM、12MΩ/CM、0.5MΩ/CM),采用当今最先进的双级反渗透纯化水处理技术+EDI模块化设计。原水通过一、二级反渗透系统去除各种盐份及杂质,再经过EDI系统对反渗透产水高度净化,使水质提高。此电子行业EDI超纯水设备不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,系统工艺先进、水质稳定、自动化程度高、操作简便、占地少、运行费用低、绿色环保、维护方便,处理后可生产出水电阻率可达到18.2兆的超纯水。

 
电子光学--EDI超纯水设备
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